潔凈室內(nèi)氣流組織的影響因素、在實際建廠過程中，氣流的流場特征會影響到潔凈度等級及污染物的控制，從而使?jié)崈羰业男Чc設(shè)計時相差甚遠。而且從流動的雷諾數(shù)來考慮，潔凈室的氣流均為紊流，潔凈室運轉(zhuǎn)后實際的風向控制較為復雜，考慮因素更多，與高架地板開孔率、FFU吹出風速、機臺方位、人員走動、導流板設(shè)置等均有很大的關(guān)系。而氣流偏移現(xiàn)象的原因分析以及氣流改善方案的前提是應從大環(huán)境角度考慮，若只考慮局部往往達不到所期望的控制目標。

工藝設(shè)備對氣流影響及解決方法

工藝設(shè)備內(nèi)的環(huán)境分為有送風環(huán)境和無送風環(huán)境，有送風環(huán)境可分為：使用潔凈室本身的潔凈空氣的環(huán)境，和自帶FFU的環(huán)境。本例說明一種利用潔凈室氣流的設(shè)備所出現(xiàn)的氣流問題和調(diào)整措施。

3.1 面臨的問題

潔凈室高架地板在設(shè)計和施工時按照空態(tài)潔凈室氣流狀態(tài)考慮，為了保證空態(tài)潔凈室氣流的均一性，高架地板開口率沿潔凈室寬度方向遞增或遞減，在潔凈室長度方向保持一致。

但是，當工藝機臺設(shè)備搬入后，氣流的一致性被破壞，產(chǎn)生了氣流的偏移，甚至形成渦流。

對于利用潔凈室氣流的機臺設(shè)備，其保證工藝生產(chǎn)的潔凈氣流來自于潔凈室氣流，當機臺周圍和地板內(nèi)部地板開口率一致時，由于機臺內(nèi)部氣流通過率低，更多的潔凈氣流流向了機臺外部，流過機臺內(nèi)部的潔凈氣流很少，甚至沒有了潔凈氣流。同時機臺側(cè)面蓋板與地板間有一定距離，形成較大間隙，設(shè)備外氣流通過此處間隙吹入設(shè)備底部，增大了設(shè)備底部與地板間空間的氣壓，導致設(shè)備中間的 downflow 減小，原理如圖 4 所示。

3.2 通過 CFD（計算流體力學）軟件的解決方案內(nèi)流場分析需建立模型及設(shè)定邊界條件，并

盡量符合實際，從而所得到的數(shù)據(jù)也能接近于實際狀況。模型建立主要包括建筑尺寸、回風道分布以及生產(chǎn)設(shè)備模型等。邊界條件主要包括FFU參數(shù)、孔板特性及障礙物等。

通過研究氣流偏移狀況，設(shè)備內(nèi)氣流減低情況，調(diào)整地板阻力特性以形成設(shè)備內(nèi)所需要之垂直單向流。一般在大環(huán)境區(qū)域氣流模擬建模時，要求業(yè)主提供生產(chǎn)機臺的相關(guān)參數(shù)（如外形尺寸、自帶FFU 參數(shù)等），以得到更符合未來實際運轉(zhuǎn)的氣流狀況。從而可以在施工之前預見未來可能發(fā)生的局部氣流偏移、紊流甚至交叉污染等不良現(xiàn)象，并采取相應的預防措施。

3.3 氣流改善驗證

為改善設(shè)備內(nèi)部氣流小的問題，通過以下措施得以實現(xiàn)，并且經(jīng)過試驗驗證，效果很好。

第一：增加設(shè)備下部高架地板的開口率。

第二：側(cè)面蓋板與地板間的間隙處安裝隔斷，改善原理和效果如圖 5 所示。

通過改善，設(shè)備內(nèi)氣流增加 2 2 % ，設(shè)備內(nèi)Particle 數(shù)據(jù)降低 79%，如表 1 所示。

4 設(shè)備周圍氣流偏移現(xiàn)象及二次調(diào)整方案

4.1 潔凈室環(huán)境導致氣流偏移

在許多工程案例中，孔板布置方案一般與FFU布置相同，即在 FFU 正下方布同樣面積的孔板。方案設(shè)計階段未考慮工藝設(shè)備搬入后導致的氣流偏移現(xiàn)象，或是在施工圖深化設(shè)計階段時，因潔凈承包商的技術(shù)水平參差不齊，多數(shù)人并未意識到孔板布置與氣流組織之間的密切關(guān)系，而僅僅是照圖施工。所以常常在實際運轉(zhuǎn)階段才發(fā)現(xiàn)氣流偏移的問題，此時再想辦法去解決往往事倍功半。在生產(chǎn)車間內(nèi)氣流為什么會有偏移的現(xiàn)象呢?可以將設(shè)備內(nèi)部和設(shè)備外部分別看作兩個風管，設(shè)備內(nèi)因為安裝有機臺，氣流流過時阻力大，風速減小，導致機臺下部氣壓低于設(shè)備外部的氣壓，設(shè)備外的氣流吹入設(shè)備底部，進一步降低了設(shè)備內(nèi)向下的氣

流。借助于 CFD 軟件，可以模擬氣流流向和壓力曲線。所以，氣流偏移的調(diào)整措施主要調(diào)節(jié)地板的阻力特性，因地板型式的不同可以通過調(diào)整高架地板孔板的分布率實現(xiàn)，通過上述改善方案從而改善潔凈室內(nèi)氣流流型。

4.2 設(shè)備微環(huán)境氣流偏移

這里的微環(huán)境主要特指生產(chǎn)機臺區(qū)域環(huán)境，在 SEMI 標準中“SEMI E44—95 微環(huán)境購買驗收

指南”對微環(huán)境的定義為：由隔離裝置做成的局部凈化環(huán)境，目的是使將產(chǎn)品與人員污染隔離開。其因由是“潔凈”工藝僅需較小的空間，卻為何浪費那么多平方米的潔凈室空間。即“大”潔凈室僅限于基本潔凈度水平，且所有的關(guān)鍵生產(chǎn)工藝都在潔凈室級別足夠好的區(qū)域內(nèi)進行。微環(huán)境又可以分為無送風微環(huán)境（不帶氣流的盒子、柜子或?qū)ｉT接口箱）和送風微環(huán)境（帶有低度紊流的微環(huán)境，可以使用潔凈室本身的潔凈空氣，或是自帶 F F U ）兩種。

一般情況下，進行氣流模擬是將生產(chǎn)機臺當作一個空塊進行處理，但實際情況并非如此。有

些機臺的確是一個不通風的箱體，但有些機臺卻可以通風，甚至多數(shù)機臺均有自帶 FFU 設(shè)備。對于通風但不帶FFU的設(shè)備，將設(shè)備側(cè)面蓋板延長至地板，并且將設(shè)備正下方的地板孔板布置率增加，可以有效增加設(shè)備內(nèi)的氣流，并提高設(shè)備內(nèi)潔凈度。

對于不通風的設(shè)備，我們可以將設(shè)備正下方的地板孔板布置率減少甚至不布置，而將孔板挪至設(shè)備四周，以避免該設(shè)備客觀上占用多數(shù)通風面積。而對于自帶FFU設(shè)備，又可以按照設(shè)備是否有水盤、底座透風狀況及廢氣排放量等不同特征，分別規(guī)劃孔板的布置方案。例如在清洗機區(qū)域，考慮到有漏液的風險，故建議在設(shè)備輪廓線附近均布置盲板以避免漏液流到回風夾層內(nèi)產(chǎn)生意外。而在 ROBOT（自動機械手臂設(shè)備）區(qū)域，因其內(nèi)部潔凈等級要求高達 ISO 4 級，一般建議該區(qū)域滿布孔板以避免紊流產(chǎn)生。而對于很多自帶FFU的設(shè)備來講，因其本身廢氣排放量較大，故設(shè)備下方的孔板布置并不需要滿布。而有些設(shè)備下方即使是滿布孔板有時也不能滿足其氣流控制需求，比如在Stocker設(shè)備底座區(qū)域孔洞內(nèi)可增加軸流風扇進行強制通風，以得到較好的垂直氣流單向流型。

4.3 局部紊流

全面單向流潔凈室也常出現(xiàn)氣流紊流和回流等狀況，會使?jié)崈羰业木植繗饬鹘M織受到破壞，是潔凈室的設(shè)計人員和施工維護人員都應注意的地方。當孔板有針對性的布置后，空態(tài)狀況下潔凈室內(nèi)的氣流特性一般都能符合設(shè)計的要求。但一旦有機臺設(shè)備進入潔凈室、人員的移動和產(chǎn)品的轉(zhuǎn)輸，就不可避免的存在著氣流組織的障礙物。比如在設(shè)備機臺突出的尖角或邊緣處，氣流會分流形成一個紊流區(qū)。在紊流區(qū)內(nèi)的流體不易被帶走，從而產(chǎn)生污染。另一種情況是因為設(shè)備本身的發(fā)熱，在機臺附近由溫度梯度引起回流區(qū)，加大了微粒累積。同

時，高溫又容易使微粒逸散出去，雙重效應加重了全面垂直單向流的控制難度。

5 結(jié)語

（1）對潔凈室設(shè)計人員而言，設(shè)計過程中需要充分考慮生產(chǎn)機臺的特性，潔凈室的整體構(gòu)造，并據(jù)此調(diào)整氣流布置方能取得理想的潔凈室氣流形態(tài)，進而確保潔凈室的潔凈度，提高生產(chǎn)良率并可實現(xiàn)一定程度的節(jié)能效果。

（2）對于生產(chǎn)潔凈設(shè)備的廠家而言，要根據(jù)設(shè)備的微環(huán)境，合理設(shè)計設(shè)備構(gòu)造，優(yōu)化送風方式，保證工藝設(shè)備的潔凈度。

  潔凈室